Alineador de máscaras para nanolitografía óptica de alta resolución, modelo MDA-400M-6,. Está ampliamente utilizado por la industria de semiconductores. Puedes alinear con gan precisión y resolución. Es ideal para trabajar en laboratorios y bajo volumen de producción, dedicados a la fabricación de prototipos.

Permite el alineamiento necesario y preciso de diferentas máscaras para la fabricación de elementos micro electromecánicos MEMS.

Características : 

• Control manual

• Wafer de hasta 6"

• Máscara de 7" x 7"

• Luz UV, fuente de 500 W

• Microscopio CCD dual y monitor 17" LCD

• Ajustes posición X,Y Z y Theta.

Especificaciones del sistema:

A Fuente de luz

Módulo fuente de luz UV 350 nm a 450 nm

Intensidad 365 nm  > max 20nW/cm2

Haz uniforme 6,25" x 6,25"

Uniformidad del haz <+/- 3%

B Microscopio

Microscopio CCD dual y monitor 17" LCD

Aumento 76x - 486x (monitor), hasta 972 opcional.

C Módulo de control

Tiempo de exposición desde 0,01 a 999,9 seg.

Ajustes posición X,Y Z y Theta.

X,Y 10 mm

Theta +/- 5º

Z desplazamiento 10 mm

Modos fijación: Vacío, Vacío de proximidad, Fuerte y débil con ajustes de fuerza.

Precisión de la alineación < +/- 1,0 micras